概述：
PANORA|make是一款专为艺术家设计的插件，旨在简化景观自动材质的创建过程。它通过易于使用的界面和非破坏性的基于遮罩的工作流程，使用户无需深入复杂的着色器图表即可快速制作高质量的景观材质。该插件支持分层工作流程，允许用户通过遮罩或手动绘画工具应用材质，并轻松添加高级效果如三平面映射、UV断裂、视差遮蔽映射和基于距离的UV缩放。此外，它适用于跨平台项目，提供统一的开发选项，优化移动和桌面平台的性能。插件还包含自定义界面、遮罩构建与链接功能以及混合缓存系统，增强了工作流程的灵活性和效率。
特点：
· 易于理解的分层工作流程：采用直观的分层材质系统，用户可通过遮罩或默认景观绘画工具应用材质，并一键添加高级效果如三平面映射、UV断裂、视差遮蔽映射和基于距离的UV缩放。
· 适用于跨平台项目：在“单一”实例模式下支持统一跨平台开发，同一材质可用于低端和高端目标平台（如移动端/VR的GLES3.1和桌面的SM5/6），并提供选项以限制纹理采样器数量并优化移动端性能。
· 自定义界面：核心界面设计使功能使用更便捷，无需滚动大量实例行，支持自动转换导入纹理、从其他材质导入以及引导用户创建实例，布局更符合人体工程学。
· 遮罩构建与链接：遮罩构建器允许基于过滤器或噪波创建遮罩，并可进行加/乘/减操作。支持从World Machine、Gaea等软件快速导入splatmap，并使用其RGB通道作为遮罩。还可链接不同子层间的过滤器，实现更精细的控制（如在特定地形坡度应用噪波）。
· 混合缓存系统：景观支持运行时虚拟缓存以提升性能，同时允许用户根据需要排除动态功能（如基于距离的UV缩放），灵活权衡性能与效果。
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